高端光刻胶是"卡脖子"关键材料之一，长期以来被国外企业垄断。目前通用的耐深腐蚀光刻胶(DeePR)，仍为美国柯达公司研发的环化橡胶系产品，其生产及使用过程存在高致病性、高污染性、高安全隐患等问题。
中心与潍坊星泰克微电子材料有限公司联合研发了耐深腐蚀光刻胶（图1），解决了环化橡胶系光刻胶的制备与使用中不可避免的需要接触二甲苯、石油醚、乳酸乙酯等毒性的有机溶剂，存在高致病性、高污染性、高安全隐患等问题；该产品是国内首创的无毒无害、无环保隐患的耐深腐蚀光刻胶产品，性能指标优于进口产品，突破了耐深腐蚀光刻胶“卡脖子”的现状；改善了工厂一线操作工人的工作环境，降低生产工艺中的安全风险。
目前，DeePR光刻胶已实现规模化生产，在科盛电子、河南启昂、晶导微电子、台基半导体等近40家分立器件企业投入使用，累计销售额超1亿元。
DeePR耐深腐蚀光刻胶技术原理示意图
